C&D 公司的 P9000 光刻胶涂胶显影集群系统专为处理 50mm 至 300mm 的晶圆而设计。该系统具备出色的灵活性,可根据需求配置多种模块,例如涂胶机、显影机、气相沉积 (vapor prime) 模块、加热台和冷却台。此外,系统还提供多种特殊工艺模块,例如光学定位和边缘胶去除装置。
C&D 公司擅长根据客户的具体需求定制光刻胶涂胶机,从而提高效率并降低成本。这意味着我们可以缩小集群系统的占地 footprint,使其完美适配各种生产线的重要空间限制。同时,系统预留了扩展槽,可方便未来根据需求增加额外的模块或升级处理更大的晶圆尺寸。
P9000 系统的优势在于即使在狭小的空间内仍能实现高产能和灵活配置。它可以根据需要自由配置为涂胶机、显影机、气相沉积模块、加热台、冷却台或其他各种组合,适用于各种光刻胶旋涂和光敏聚合物应用。
• Chemical cabinets
• Syringe dispense
• Remote chiller • Environmental controls
• Exhaust controllers
• Fire suppression
• SECS/GEM compliance
• Contact C&D for more options
• Run Three wafer sizes without hardware change
• Barcode and recipe download capable
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